SENTECH SI591 反应离子刻蚀机适用于氟基和氯基等离子体工艺，具备高灵活性与模块化设计，支持单腔或多腔集成。支持200mm晶圆，配备预真空室与智能控制系统，提供优异工艺重复性，适用于多种材料刻蚀，满足研发与高产量需求。 SI 591特别适用于采用氟基和氯 ...